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電鍍錫


電鍍錫的分類(lèi)及特點(diǎn)
       錫可以采用熱浸鍍、電鍍和化學(xué)鍍等方法沉積于基體金屬。其中電鍍是3種方法中應用較多的。電鍍錫有4種基本工藝:堿性錫酸鹽工藝、酸性硫酸鹽工藝、酸性氟硼酸鹽工藝和酸性有機磺酸鹽工藝。
       1. 堿性錫酸鹽工藝
       堿性錫酸鹽工藝可采用錫酸鈉或錫酸鉀為主鹽。由于錫酸鉀溶解度較錫酸鈉高得多,故在高速電鍍中常采用錫酸鉀為主鹽。堿性鍍錫工藝中重要的是須控制錫陽(yáng)極的表面狀態(tài),在電鍍過(guò)程中陽(yáng)極表面須形成金黃色半純膜以保證獲得良好的錫鍍層,否則將產(chǎn)生粗糙多孔的鍍層,堿性錫酸鹽工藝近年來(lái)沒(méi)有多少改變。
       2. 酸性硫酸鹽工藝
       酸性硫酸鹽鍍錫工藝操作溫度一般在10-30℃ ,由于鍍液中sn2較堿性錫酸鹽中sn4的電化當量要高2倍,沉積速度快,電流效率高,因而它比堿性錫酸鹽工藝節省電能。同時(shí)原料易得,成本較低,控制和維護都較方便,容易操作,廢水易處理,是當前應用廣的鍍錫工藝。
       3. 酸性氯硼酸鹽鍍錫
       另一酸性鍍錫工藝是氟硼酸鹽鍍錫,此工藝較硫酸鹽鍍錫工藝具有更高的允許陰極電流密度(可達到100A/din2),適用于高速電鍍。主要缺點(diǎn)是氟硼酸嚴重污染環(huán)境,腐蝕性強且廢水較難處理。
       4. 烷基磺酸鹽鍍錫工藝
       近年來(lái)烷基磺酸鹽鍍錫、鉛和錫鉛臺金工藝的應用已日益增多,這主要是由于它較氟硼酸鹽工藝有如下優(yōu)點(diǎn):①鍍液毒性小、廢水易處理;② 對設備的腐蝕性較氟硼酸要小;③降低了鍍液中Sn2的氧化,可減少錫渣的生成;④對陶瓷和玻璃材料不浸蝕,可應用于半導體器件的鍍覆。


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